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HYDRON? SE 230A
用于半導體器件的堿性清洗劑

專為浸沒式清洗工藝設計的單相水基型清洗劑,能夠有效去除多種半導體電子器件芯片焊接后的助焊劑殘留物,包括引線框架、分立器件、功率模塊、功率LED、倒裝芯片和CMOS,且能夠保證有效去除銅表面的氧化層。

相較于其他清洗液的優(yōu)勢:

為引線鍵合、封裝和膠裝等后續(xù)工藝提供無污點且激活的銅表面并在一定時間內保持活性
在處理銅、鋁、鎳等敏感金屬材料時表現出良好的材料兼容性
非常低的表面張力,在清洗低間隙元器件的底部殘留物時擁有
應用過程十分簡便,在浸沒式清洗工藝中
能夠輕易被去離子水漂洗干凈,不會留下任何殘留
應用領域
去除污染物
清洗工藝
清洗技術
SiP封裝清洗
晶圓級封裝清洗
MEMS器件封裝清洗
攝像模組清洗
功率電子器件清洗



詳情:

規(guī)格參數

  • 行業(yè)分類:

    化工/工業(yè)用清洗劑

  • 產品類別:

  • 品  牌:

    德國ZESTRON

  • 規(guī)格型號:

    HYDRON? SE 230A

  • 庫  存:

  • 生 產 商:

    德國ZESTRON

  • 產  地:

    中國上海市嘉定區(qū)

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