EV-400高真空金屬有機(jī)蒸發(fā)鍍膜機(jī)

真空腔室：前開(kāi)門(mén)真空腔體，方便取放基片、更換鎢舟、添加蒸發(fā)材料以及真空室的日常維護(hù)保養(yǎng)；

真空系統(tǒng)：國(guó)產(chǎn)分子泵作為主抽泵，真空極限優(yōu)于5.0?10-5Pa（經(jīng)烘烤除氣后）；另可選進(jìn)口磁懸浮分子泵或是低溫泵作為主抽泵，真空極限優(yōu)于3.0?10-6Pa（經(jīng)烘烤除氣后）；

真空抽速：大氣～8?10-4Pa≤30min；

蒸發(fā)源：4～6組歐美技術(shù)金屬或是有機(jī)束源爐蒸發(fā)源可選，多源共蒸獲得復(fù)合膜/分蒸獲得多層膜，功能強(qiáng)大，性能穩(wěn)定；

蒸發(fā)電源：真空專(zhuān)業(yè)蒸發(fā)電源，恒流/恒功率控制。電流、功率可預(yù)先設(shè)置，可實(shí)現(xiàn)一鍵啟動(dòng)和停止的自動(dòng)控制功能；

基片臺(tái)：最大120mm基片/15～25mmITO/FTO玻璃25片，可定制一體化高精度刻蝕掩膜板；基片臺(tái)公轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0～20r/min連續(xù)可調(diào)；

基片臺(tái)功能：襯底可選擇加熱（室溫～300℃可調(diào)可控）或水冷，基片臺(tái)可選升降，源基距最大350mm；

濺射電源：直流脈沖濺射電源、全自動(dòng)匹配的射頻濺射電源可任選；

膜厚監(jiān)控儀：可選配國(guó)產(chǎn)或進(jìn)口單水冷探頭膜厚儀；

可鍍材料：可沉積金屬（Au、Ag、Al、Ca、Cu、Mg、Fe、Cr、Ti、Ni等）、非金屬、化合物（MoO3、LiF等）及有機(jī)材料，可拓展沉積單層膜、多層膜及混合膜；

控制方式：PLC+觸摸屏控制系統(tǒng)，具備漏氣自檢與提示、通訊故障，實(shí)現(xiàn)一鍵抽停真空。